Лютэц ← Гафн → Танталь Zr ↑ Hf ↓ Rf 72Hf Пэрыядычная сыстэма хімічных элемэнтаў
Выгляд
Агульная інфармацыя
Назва, сымбаль, атамны нумар	Гафн, Hf, 72
Катэгорыя элемэнту	Мэталы
Група, пэрыяд, блёк	4, 6, p
Адносная атамная маса	178,49 г·моль−1
Канфігурацыя электронаў	5s25p65d26s2
Электронаў у абалонцы
Фізычныя ўласьцівасьці
Фаза	Цьвёрдае цела
Шчыльнасьць (пры п. т.)	13,3 г·см−3
Тэмпэратура плаўленьня	2000-2230 °C
Тэмпэратура кіпеньня	3200 °C
Структура крышталічнай краты	hexagonal close-packed
Уласьцівасьці атама
Кавалентны радыюс	144,2 пм
п а р

Гафн (па-лацінску: Hafnium), Hf — хімічны элемэнт IV групы пэрыядычнай сыстэмы; атамны нумар 72. Серабрыста-белы мэтал. Належыць да ліку расьсеяных у прыродзе элемэнтаў. У зямной кары ўтрыманьне гафну складае ад 3×10^-4 % да 4×10^-4 % паводле масы^[1]. Уласных мінэралаў ня мае, заўсёды сустракаецца разам з цырконам, які распаўсюджаны нашмат больш. Гафн адкрыты ў 1923 г. у цырконіевых рудах вугорскім хімікам Хевешы і дацкім фізыкам Костэрам з дапамогай рэнтгенаспэктральнага аналізу. Сваю назву атрымаў ад слова Hafnia — лацінскай назвы гораду Капэнгагена, у якім ён быў адкрыты. Элемэнт зьяўляецца сумесьсю шасьці ізатопаў з масавымі лікамі ад 174 да 180, самы цяжкі зь якіх зьяўляецца найбольш распаўсюджаным (35,22%). Ізатоп ¹⁷⁴Hf (0,163%), відавочна, радыёактыўны (2×10¹⁵ год, ${\displaystyle \alpha }$). Вядома дванаццаць штучных радыёактыўных ізатопаў з масавымі лікамі A= 178-180. Пры апрамяненьні гафну нэўтронамі, найбольш важныя зь іх ¹⁷⁵Hf (70 дзён, электронны захоп), ¹⁸¹Hf (44,6 дня, β^-) выкарыстоўваюць у якасьці мечаных атамаў. Лёгкія радыёізатопы атрымліваюцца з апрамяненьня нэўтронамі ізатопаў лютэцыю, якія потым зазнаюць β^--распад.

Гафн рэкамэндуюць выкарыстоўваць для вытворчасьці кантрольных і рэгуляцыйных стрыжняў гамагенных рэактараў і рэактараў у атамных падводных лодак з-за ягонага вялікага сечыва захопу цеплавых (паглынаньня) і надцеплавых нэўтронаў (105 барн)^[2], высокай тэмпэратуры плаўленьня (2230), добрых мэталічных ды антыкаразыйных уласьцівасьцей. У спэктры сечываў захопу нэўтронаў гафнам у інтэрвале энэргій ад 1 эВ да 10 кэВ маюцца сем рэзанансных пікаў, пяць зь якіх выкліканыя ¹⁷⁷Hf (18,59%). Таксама выкарыстоўваецца пры вытворчасьці лямп напальваньня, катодаў рэнтгенаўскіх трубак ды гетэраў электронных лямп. Вокіс, нітрыд і карбід выкарыстоўваюцца ў якасьці вогнеўстойлівых матэрыялаў.

Прымяняецца ў газапаглынальніках у вакуўмных прыладах.

Гафн — сховішча мультымэдыйных матэрыялаў