林本坚
| 林本坚 | |
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| 出生 | 1942年（81—82岁） 越南西贡堤岸 |
| 教育程度 | 俄亥俄州立大学电机工程学博士 |
| 头衔 | |
| 奖项 | |
林本坚 （1942年—），中华民国学者、中央研究院院士，现任国立清华大学特聘研究讲座教授、半导体研究学院院长、台积电-清大联合研发中心主任，越南西贡堤岸（今胡志明市）人，籍贯广东潮安，曾任台积电研发副总经理，与杨光磊、蒋尚义、孙元成、梁孟松、余振华等人并称“台积电研发六骑士”[1]。
生平
[编辑]1942年，出生于法属越南西贡堤岸的海外华侨家庭，在当地的中华民国侨校完成小学、中学至高二。1959年起当地局势紧张，后以越籍侨生身份来台，插班进入台湾省立新竹中学高中三年级，后来在未以侨生身份加分的原始总分424分，录取当年最低录取分数423分的国立台湾大学电机工程学系，并于1963年毕业，后留学美国深造，虽获柏克莱加州大学录取，但因女友的关系，留在俄州并于1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。[2][3]后任职于IBM，1984年担任研发部经理。[4][5] 1992年，从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理。2000年，回到台湾加入台积电。[6]2002年，担任研发处长时，以浸润式微影技术，成功把摩尔定律推进六个世代，被誉为“浸润式微影之父”、“半导体界爱因斯坦”[7]，后该技术为ASML看重并得到采用，2015年从台积电退休后，担任国立清华大学特聘研究讲座教授、半导体研究学院院长。[8][9]他同时本身是一位虔诚的基督徒。[10]
荣誉
[编辑]- 2003年被选为电气电子工程师学会会士和国际光电工程学会会士。[8]
- 2008年被选为美国国家工程院院士。[11]
- 2013年获得IEEE西泽润一奖。[3][5]
- 2014年被选为中央研究院院士。[8]
- 2018年获得未来科学大奖数学与计算机科学奖。
- 2024年获得总统创新奖。
参考来源
[编辑]- ^ 專挑對手讓台積電痛…研發六騎士到梁孟松的恨18年前照見證歷史. [2023-09-14]. （原始内容存档于2023-09-19）.
- ^ 蒙天祥. 僑生之光 林本堅榮膺中研院院士 (pdf). 侨协杂志 (华侨协会总会). 2014年9月, (148): 37–39 [2021-01-22]. ISSN 1029-3167.
- ^ 3.0 3.1 ECE Alum Burn Lin receives IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal. Ohio State University. 30 April 2013 [2 December 2018]. （原始内容存档于2021-01-26）.
- ^ Burn J. Lin (1987). "The future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51
- ^ 5.0 5.1 Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June 2013 [2 December 2018]. （原始内容存档于2019-03-08）.
- ^ Biography: Burn J. Lin. Semiconductor Research Corporation. [2 December 2018]. （原始内容存档于2019-02-26）.
- ^ 浸潤式微影之父林本堅蝸居鞋盒辦公室作育人才| 產經. [2023-09-14]. （原始内容存档于2023-10-29）.
- ^ 8.0 8.1 8.2 Semiconductor Pioneer Burn Lin Joins NTHU. National Tsing Hua University. 2016 [2 December 2018]. （原始内容存档于2018-12-03）.
- ^ TSMC Burn Lin Academic Salon. 2016 [2 December 2018]. （原始内容存档于2018-12-03）.
- ^ 存档副本. [2021-03-16]. （原始内容存档于2021-01-21）.
- ^ Dr. Burn Jeng Lin. United States National Academy of Engineering. [2 December 2018]. （原始内容存档于2018-12-03）.
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