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ヘテロ接合 (半導体)

この記事は検証可能参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。 出典を追加して記事の信頼性向上にご協力ください。(このテンプレートの使い方)出典検索?"ヘテロ接合" 半導体 – ニュース · 書籍 · スカラー · CiNii · J-STAGE · NDL · dlib.jp · ジャパンサーチ · TWL (2013年11月)

ヘテロ接合(ヘテロせつごう、英語:heterojunction)とは、異なる半導体同士の接合である。通常は格子整合系または格子定数が近い材料系で作られる。

応用

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バンドギャップの違いを利用したもの

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半導体はそれぞれ、固有のエネルギーバンドをもつ。このため、多くの場合、ヘテロ接合では、バンドギャップの違う半導体を接合することになる(このバンドの接合についてはアンダーソンの法則を参照)。この2つの半導体のエネルギーバンドの差を利用した研究(量子井戸超格子など)が盛んに行われている。応用例としては、太陽電池(HIT)、半導体レーザーHEMTHBTなどがある。

結晶成長の応用(ヘテロエピタキシャル)

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結晶成長技術の1つにエピタキシャル成長がある。これは、基板の上に結晶成長を行う方法である。成長させる結晶と同一の結晶の基板を作製することが困難な場合、成長させる結晶とは異なる基板が用いられる。

関連項目

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外部リンク

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ヘテロ接合 (半導体)
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