Litografi ultraviolet ekstrim
Litografi ultraviolet ekstrim (bahasa Inggris: Extreme ultraviolet litography), dalam bahasa Inggris disingkat sebagai EUV atau EUVL, merupakan teknologi litografi optis yang digunakan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor untuk membuat sirkuit terpadu (IC). Teknologi ini menggunakan panjang gelombang ultraviolet ekstrim yang mendekati 13,5 nm, menggunakan tetesan plasma timah (Sn), untuk menghasilkan suatu pola dengan menggunakan reflective photomask untuk meng-expose substrat yang tertutup oleh photoresist. Teknologi ini baru diterapkan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor yang paling maju.
Hingga 2023, ASML Holding merupakan satu-satunya perusahaan yang memproduksi dan menjual sistem-sistem EUV untuk produksi cip.[1]
Lihat pula
[sunting | sunting sumber]Referensi
[sunting | sunting sumber]- ^ Tarasov, Katie (2022-03-23). "ASML is the only company making the $200 million machines needed to print every advanced microchip. Here's an inside look". CNBC (dalam bahasa Inggris). Diakses tanggal 5 Oktober 2023.
Pranala luar
[sunting | sunting sumber]Text is available under the CC BY-SA 4.0 license; additional terms may apply.
Images, videos and audio are available under their respective licenses.
Cover photo is available under {{::mainImage.info.license.name || 'Unknown'}} license.
Cover photo is available under {{::mainImage.info.license.name || 'Unknown'}} license.
Credit:
(see original file).
